產品用途：

此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔

電極方面的研究，通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。

產品組成：

CVD系統配置：

1.1200度開啟式真空管式爐（可選配單溫區及雙溫區）。

2.滑動系統分為手動、電動滑動，并配有風冷系統。

3.內外雙石英管，采用真空可通氣氛雙法蘭特殊連接。

4.多路氣體流量控制系統（質子流量控制器和浮子流量控制器）

5.真空系統（可選配中真空或高真空）

產品特點：

產品獨特性

1 控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。

2 氣路快速連接法蘭結構采用本公司獨有的知識產權專利設計,提高操作便捷性。

3 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統使用壽命。

4 (電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設定的速度滑動，因有滑動限位功能，爐體不會發生碰撞，待樣品露出爐體后，通過風冷系統快速降溫。

5 雙管真空密封法蘭，反應氣體可以在內外管之間發生反應，冷卻氣體可通過內管，從而使內管外壁溫度降低。