CR-2000硬鉻催化劑工藝使用說(shuō)明

1. 工藝特點(diǎn)

1.陰極電流效率高，可達(dá)23-25%

2.沉積速度快，是一般普通電鍍鉻的2-3倍

3.無(wú)陰極低電流區(qū)腐蝕

4.鍍層平滑，結(jié)晶細(xì)致光亮

5.高鍍層硬度，可達(dá)HV900-1150

6.微裂紋可達(dá)400-600條/厘米

7.鍍層厚度均勻，無(wú)高電流區(qū)沉積過(guò)厚

8.可使用高電流密度，可達(dá)90安培/平方分米

9.鍍液維護(hù)簡(jiǎn)單，操作容易

10.無(wú)陽(yáng)極腐蝕，不需采用特殊陽(yáng)極

11.無(wú)固體添加之銘塵和濺水現(xiàn)象

二、鍍液配方和操作工藝

三、鍍液配制

1.清洗槽子

2.注入一半體積去離子水

3.加入所需量的鉻酐

4.添加所需量的CR-2000

5.加入去離子水、調(diào)節(jié)至規(guī)定液面

6.加熱至55-60℃

7.分析硫酸濃度，調(diào)整至規(guī)定工藝范圍

8.電解4小時(shí)

9.加入適宜的鉻霧抑制劑

10.試鍍

四、沉積速度

沉積速度會(huì)隨溫度降低而稍有提升，但光亮范圍會(huì)變窄

五、設(shè)備

鍍槽：鐵槽內(nèi)襯軟PVC或其它認(rèn)可材料。

陽(yáng)極：含錫7%鉛錫陽(yáng)極或其它認(rèn)可材料。

整流器：輸出電壓可達(dá)9-16伏較適宜，輸出電流波紋率最好在5%以下。

溫度控制：采用熱交換器或冷卻管，建議采用鈦管或金屬披覆聚四氟乙烯

六、、轉(zhuǎn)缸及前處理：

傳統(tǒng)的硬鉻液轉(zhuǎn)為CR-2000工藝簡(jiǎn)單，將鍍液送交本廠化驗(yàn)。

確認(rèn)無(wú)機(jī)雜質(zhì)小于7.5克/升，同時(shí)不含氟化物即可，CR-2000工藝的前處理同一般傳統(tǒng)鍍鉻相同無(wú)需特殊處理。

七、槽液維護(hù)：

CR-2000用于槽液之補(bǔ)充添加，按每千安培小時(shí)補(bǔ)充4-6毫升